Toward controlled ultra-high vacuum chemical vapor deposition processes

Betere controle over productie van dunne lagen

Het functioneren van dunne lagen is essentieel voor de werking van veel componenten in producen als camera’s en auto’s tot satellieten. Maar hoe gaan we de prestaties van onze dunne lagen naar nieuwe hoogtes krijgen? Dat is een centrale vraag voor onderzoekers in dit veld. Zij willen deze componenten kunnen maken met precies de goede eigenschappen voor het beoogde doel. Een manier om dit te bereiken is door de zuiverheid van de dunne laag te verbeter, door een reductie van ongewenste moleculaire structuren in de dunne laag.

Bij dunne lagen kan een kleine hoeveelheid misplaatste moleculen, op nanoschaal, al een merkbaar effect teweegbrengen. Martijn Dresscher presenteert methoden om gewenste structuren te maken met de hoogst haalbare zuiverheid. Problemen die opspelen in dit proces hebben betrekking op de mate van controle die uit te oefenen is op het bouwproces van de dunne laag, dat plaats moet vinden in omstandigheden die de extreme zuiverheid faciliteren. Dresscher heeft een deel van deze problemen opgelost door gebruik te maken van een meetinstrument dat hem in staat stelt om gewenste bouwstenen te selecteren voor de dunne lagen. Door dit te doen is Dresscher waarschijnlijk de eerste die actief atomaire partiele drukken wist te controleren in een ultrahoog vacuüm omgeving middels feedback.

Het promotieonderzoek van Martijn Dresscher vond plaats bij de afdeling Discrete Technologie en Productie Automatisering van het ENgineering and TEchnology institute Groningen (ENTEG). Hij werkt nu als scientist / system engineer bij TNO.

Proefschrift: http://hdl.handle.net/11370/cc37248e-526b-45f2-8cdc-9e869b8804c3